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      超高真空多腔室物理氣相沉

      • 超高真空多腔室物理氣相沉
      超高真空多腔室物理氣相沉

      超高真空多腔室物理氣相沉

      • 極限真空:5E-10torr
      • 產品描述:超高真空多腔室物理氣相沉積系統

      高真空多腔室物理氣相沉積系統(PVD)

      該系統由全球專業的沉積設備商制造,配置多種沉積方式(預留各種功能接口),高度靈活,非常適合多種沉積模式的科研.

      目前該系統的超高真空條件沉積模式(僅用機械泵+分子泵,極限真空可達5X10E-10Torr)。多種組合沉積模式,同一腔體實現多種功能沉積方式,沉積源模式有:
      磁控濺射源
      電子束蒸發源
      熱蒸發源
      該系統高度靈活,軟件操作方便,專業為研究機構沉積超純度薄膜,是真正的超高真空沉積系統。
      技術參數:
      極限真空: <5x 10E-10 torr(經過24小時烘烤冷卻后);
      鍍膜均勻度:<3%
      樣品傳送: 便捷安放上置襯底
      機柜: 占用空間小結構;
      樣品臺工作: 旋轉, 加熱, 加載偏壓;
      樣品操作: 預抽真空室;
      樣品尺寸: 1”、 2”、 3”、 4” 、8”、12”等;
      膜厚監控: 石英晶體微天平, 橢偏儀;
      烘烤: 內置加熱或外置保溫加熱;
      簡單方便 的全自動軟件操作:全自動抽取真空并且程序自動運行。